De LEELIS-III workshop wordt 12 –13 November in Amsterdam (ARCNL) gehouden en Demaco Vacuum Technology is als één van de sponsors daarbij aanwezig. Er wordt gefocusseerd gekeken naar de rol van laag-energie elektronen op het terrein van beeldvorming en nanolithographie. Omdat laag-energie elektronen een sleutelrol spelen bij diverse processen, van radiologie tot astrochemie, zijn zij bijzonder belangrijk voor de industriële extreme ultraviolet lithopgraphie (EUVL) en de laag-energie elektronen microscopie (LEEM)
Experts van complementaire gebieden, zoals gecondenseerde materie fysica, EUVL, laag-energie elektronenmicroscopie en engineering zullen worden samengebracht om tot nieuwe inzichten over de wisselwerking van laag-energie elektronen fysica en de chemie, die eruit induceert.
